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离子刻蚀 IBE
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离子刻蚀机 IBE

 特性
 Base Pressure  5E-10 torr
 - 美国 KRI 离子源 RFICP 100
 - Tilatable(+/45), continuously rotatble manipulator with water cooling

 

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 特性
 - Base Pressure  5E-10 torr
 - 美国 KRI 离子源 KDC 75
 - Tilatable(+/180), continuously rotatble manipulator with water cooling


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